紐約普萊恩維尤 – 2018 年 11 月 8 日 – Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO) 與 ALLOS Semiconductors GmbH 今日宣布取得又一階段的合作成果，雙方共同努力，致力于為 microLED 生產(chǎn)應(yīng)用提供業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的硅基氮化鎵外延片產(chǎn)品技術(shù)。兩家公司最近合作的宗旨是，在為全球范圍內(nèi)多家杰出的消費類電子產(chǎn)品公司生產(chǎn)外延片的同時，展示 ALLOS 200 mm 硅基氮化鎵外延片產(chǎn)品技術(shù)在 Veeco Propel? MOCVD 反應(yīng)器上的可復(fù)制性。

 

“要將 microLED 技術(shù)轉(zhuǎn)化為生產(chǎn)，僅依據(jù)單項指標(biāo)展示主導(dǎo)價值是不夠的。我們必須確保每種外延片的整套規(guī)格都具有出色的可重復(fù)性和收益，”Veeco Compound Semiconductor 業(yè)務(wù)部門高級副總裁兼總經(jīng)理 Peo Hansson 博士表示。“此次成功聯(lián)合再次肯定 Veeco 的優(yōu)秀 MOCVD 專業(yè)知識與 ALLOS 硅基氮化鎵外延片產(chǎn)品技術(shù)強(qiáng)強(qiáng)結(jié)合，能夠為客戶提供經(jīng)驗證的、可靠的創(chuàng)新方案，加速推進(jìn) microLED 應(yīng)用。”

 

作為標(biāo)準(zhǔn)，傳統(tǒng) LED 技術(shù)通過分類和分級實現(xiàn)波長一致性。但鑒于 microLED 尺寸小、數(shù)量多而無法分類和分級，因此，外延沉積的一致性變得更為重要。要使大批量生產(chǎn) microLED 顯示器的承諾變成現(xiàn)實，最重要的成功要素在于實現(xiàn)極佳的發(fā)射波長一致性，這樣就不需要進(jìn)行單獨的 microLED 芯片測試和分選。根據(jù)業(yè)內(nèi)目標(biāo)要求，外延片分級應(yīng)介于 +/-1 nm（下限）和 +/-4 nm（上限）之間，取決于應(yīng)用和傳質(zhì)方法。通過合作項目，Veeco 和 ALLOS 通過標(biāo)準(zhǔn)偏差僅為 0.85 nm 的晶片進(jìn)一步改善至關(guān)重要的波長一致性，這在生產(chǎn)系統(tǒng)方面屬于行業(yè)首例。

 

“Veeco 和 ALLOS 對晶片之間的可復(fù)制性進(jìn)行了驗證，所有晶片的平均波長標(biāo)準(zhǔn)偏差為 1.21 nm，且峰值波長介于 +/-0.5 nm 范圍內(nèi)。由此，我們朝著 +/-1 nm 外延片分級的目標(biāo)又邁進(jìn)一大步，”ALLOS 首席執(zhí)行官 Burkhard Slischka 表示。“我們的技術(shù)已經(jīng)可以在直徑 200 mm 的晶片上使用，這樣就能使用低成本、高收益的硅系列進(jìn)行 microLED 芯片生產(chǎn)。此外，我們對于 300 mm 晶片應(yīng)用已有清晰的發(fā)展藍(lán)圖。”

 

作為下一個重大技術(shù)轉(zhuǎn)變主題，microLED備受顯示器技術(shù)創(chuàng)新者的關(guān)注。據(jù)調(diào)研公司 Yole Développement，到 2025 年，市售 microLED 顯示器數(shù)量可能達(dá)到 3.3 億臺。邊長小于 100 ?m 的 microLED 技術(shù)被視作開發(fā)功耗更低的旗艦顯示器的重要驅(qū)動因素，相關(guān)技術(shù)承諾助長了這一樂觀情緒。但是，材料成本高、收益低以及 microLED 傳質(zhì)技術(shù)產(chǎn)量一直阻礙著此類顯示器的開發(fā)。此次技術(shù)聯(lián)合有效地解決了這些挑戰(zhàn)，Veeco 和 ALLOS 將繼續(xù)與客戶合作，旨在進(jìn)一步改善硅基氮化鎵外延片和 microLED 傳質(zhì)技術(shù)。

 

2018 年 11 月 12 日，兩家公司將攜手在日本金澤市召開的國際氮化物半導(dǎo)體工作研討會 (IWN) 上詳細(xì)展示他們的突破成就。

 

 

Veeco (NASDAQ: VECO) 是領(lǐng)先的創(chuàng)新半導(dǎo)體工藝設(shè)備制造商。在固態(tài)照明用 LED 和顯示器用 LED 生產(chǎn)，以及先進(jìn)半導(dǎo)體器件制造方面，我們經(jīng)驗證的 MOCVD、光刻、激光退火、離子束和單晶片蝕刻以及清潔技術(shù)發(fā)揮著不可或缺的作用。由于設(shè)備能夠最大程度地提高性能、收益和擁有成本，Veeco 在所有這些服務(wù)市場中都占據(jù)技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)地位。有關(guān) Veeco 創(chuàng)新設(shè)備和服務(wù)的更多信息，請訪問 www.veeco.com。

 

 

ALLOS 是一家知識產(chǎn)權(quán)授權(quán)和技術(shù)工程公司，致力于幫助全球半導(dǎo)體行業(yè)的客戶掌握硅基氮化鎵技術(shù)并發(fā)揮其優(yōu)勢。ALLOS 提供專有技術(shù)和專利許可，并針對客戶 MOCVD 反應(yīng)器提供技術(shù)轉(zhuǎn)讓。此外，ALLOS 致力于為客戶提供特定解決方案和咨詢服務(wù)，以應(yīng)對下一代硅基氮化鎵開發(fā)挑戰(zhàn)。