11月25-27日，由深圳市龍華區(qū)科技創(chuàng)新局特別支持，國家半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟（CSA）、第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟（CASA）主辦，深圳第三代半導(dǎo)體研究院與北京麥肯橋新材料生產(chǎn)力促進中心有限公司共同承辦的第十六屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇（SSLCHINA 2019）暨2019國際第三代半導(dǎo)體論壇（IFWS 2019）在深圳會展中心召開。 

11月26日上午，“Micro-LED與其他新型顯示技術(shù)”分會如期召開。本屆分會由山西中科潞安紫外光電科技有限公司、華燦光電股份有限公司、德國愛思強股份有限公司、北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司協(xié)辦。

法國原子能委員會電子與信息技術(shù)實驗室研究主任Francois TEMPLIER，北京大學(xué)教授陳志忠，德國ALLOS Semiconductors首席技術(shù)官Atsushi NISHIKAWA，美國Lumiode, Inc.創(chuàng)立者兼總裁Vincent LEE，北方華創(chuàng)PVD事業(yè)部LED產(chǎn)品經(jīng)理郭冰亮，和蓮光電科技股份有限公司董事長邰中和，南京大學(xué)電子科學(xué)與工程學(xué)院副院長、教授劉斌，德國Instrument Systems optische Messtechnik GmbH的Tobias STEINEL等來自中外的強勢力量聯(lián)袂帶來精彩報告。   

   

德國Instrument Systems optische Messtechnik GmbH的Tobias STEINEL做了題為“用于μ-LED和OLED顯示器和晶圓的亞像素評估的成像光測量設(shè)備µ-LED市場預(yù)計將急劇增長”的主題報告，分享了µ-LED / OLED顯示測試在生產(chǎn)中的挑戰(zhàn)，µ-LED晶圓測試在生產(chǎn)中的挑戰(zhàn)，顯示器生產(chǎn)測試的解決方案，標準顯示測試，測試µ-LED晶圓（或小型顯示器），亞像素表征（µ-LED，OLED），缺陷像素評估，在線µ-LED（-OLED）測試等內(nèi)容。

報告顯示，µ-LEDs可能是破壞性的顯示技術(shù)，µ-LED晶圓測試需要基于相機的測量概念，以實現(xiàn)合理的生產(chǎn)節(jié)拍時間。卓越的µ-LED技術(shù)需要高性能和極高分辨率的LMD才能進行快速生產(chǎn)測試，亞像素評估和校準需要復(fù)雜的算法和分析工具。

 

（內(nèi)容根據(jù)現(xiàn)場資料整理，如有出入敬請諒解）