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Mini/Micro-LED加速量產(chǎn),顯示器件良率提升有話要說!

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2022-05-06 來源:半導體照明網(wǎng)瀏覽次數(shù):535
  半導體照明網(wǎng)消息:顯示技術也日新月異,已經(jīng)成為我們日常生活不可或缺的組成部分。從各種消費者器件到大型燈箱廣告,以及流行的車載顯示和虛擬現(xiàn)實等高新顯示技術,都推動了顯示器件從傳統(tǒng)的液晶顯示(LCD)過渡到有機發(fā)光二極管(OLED)以及微發(fā)光二極管(micro-LED)等新技術。
 
  據(jù)了解,今年Touch Taiwan 2022 上,富采/聚積/友達/錼創(chuàng)大秀Mini/Micro LED技術。其中,LED整合大廠富采因應市場需求,今年持續(xù)擴建MiniLED產(chǎn)能,預計今年集團兩岸MiniLED產(chǎn)能將再提升25%,同時亦積極與客戶整合巨量轉移技術、加速Micro LED導入量產(chǎn)進程。
 
  另外,錼創(chuàng)成功發(fā)表9.38英寸、114ppi、分辨率為960x480的透明Micro LED顯示器,穿透率達65-70%。錼創(chuàng)表示,>70%將可符合車廠所要求的規(guī)格,未來將有可能導入車用市場之中。?
 
  這些新技術的誕生為半導體器件生產(chǎn)過程中的良率提升及失效分析帶來了新的挑戰(zhàn)。不論是Mini/Micro-LED還是OLED,技術都需要更嚴格的設計和生產(chǎn)參數(shù)。對于主流顯示技術而言,加工工藝控制(例如:測量)和失效分析(FA)是提高良率和質量的關鍵。有分析指出,最新的顯示屏結構需要對背板和發(fā)光單元的關鍵尺寸(橫向和縱向)進行精確控制。而這就需要高度精準的測量。由于顆粒、污染或工藝偏差造成的缺陷會嚴重影響良率和質量,因此在產(chǎn)品生命周期的早期階段,越來越詳細的失效分析是必不可少的。因此,如何快速有效的提升良率,并對失效進行關鍵性分析,就成為半導體工業(yè)界所面臨的重要挑戰(zhàn)。
 
  據(jù)了解,在半導體器件的研發(fā)、測量和失效分析方面,賽默飛世爾科技提供一套獨特而全面的工作流程,來滿足顯示設備制造商的需求。其測量解決方案提供卓越的可復現(xiàn)性和高質量的納米級分析能力。對于缺陷的隔離和分析,賽默飛的掃描電子顯微鏡(SEM)、聚焦離子束掃描電鏡(FIB-SEM)和透射電子顯微鏡(TEM)的解決方案可提供自動化、高精度的樣品制備和行業(yè)領先的成像技術。
 
  為了更好的支持企業(yè)技術,半導體照明網(wǎng)、極智課堂將聯(lián)合電鏡領域國際代表性企業(yè)賽默飛世爾科技中國的專家,來一場與電鏡技術相關的線上面對面對的探討交流,敬請關注!


【直 播 預 告】

  演講主題:“更快,更深,更全”--高效率雙束電鏡在半導體量產(chǎn)工業(yè)領域的應用
 
  主講嘉賓:蔡琳玲 (賽默飛世爾科技PFA業(yè)務拓展經(jīng)理)
 
  課程簡介:雙束電鏡是半導體工業(yè)領域過程控制以及失效分析的重要手段,它可以實現(xiàn)定點位置的快速加工和高分辨SEM成像,而Xe+離子FIB(PFIB)技術有別于傳統(tǒng)的Ga+離子,具有更高的束流,可實現(xiàn)高通量的切割和表征,將數(shù)據(jù)處理時間縮短至數(shù)小時而不是以往所需的數(shù)天或數(shù)周,同時對于第三代半導體,Xe+離子加工技術還可有效避免Ga+污染。此報告將從FIB-SEM的基本原理和前沿技術出發(fā),重點介紹Helios 5 PFIB在芯片封裝、第三代半導體、顯示面板等領域的應用優(yōu)勢。
 
  嘉賓簡介:蔡琳玲在賽默飛世爾科技擔任PFA商務拓展經(jīng)理,有著10多年電鏡技術支持的從業(yè)經(jīng)驗,具有堅實的顯微鏡理論基礎以及豐富的實際應用經(jīng)驗,對于電鏡產(chǎn)品如何助力于邏輯、存儲、化合物半導體、封裝以及面板類產(chǎn)品的研發(fā)以及良率提升有著持續(xù)和深入的研究,對于半導體工業(yè)各類樣品的的失效分析方法都非常熟悉?;谒S富的應用經(jīng)驗,她可以為不同行業(yè)的客戶提供相適應的EFA到PFA的失效解決方案。
 
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  關于賽默飛世爾科技:賽默飛世爾科技在全球商業(yè)擁有巨大的影響力,其進入中國發(fā)展已近40年,其在中國的總部設于上海,并在北京、廣州、香港、成都、沈陽、西安、南京、武漢、濟南等地設有分公司,產(chǎn)品主要包括分析儀器、實驗室設備、試劑、耗材和軟件等,提供實驗室綜合解決方案,為各行各業(yè)的客戶服務。
 
  對于半導體制造商和電子行業(yè),其將電氣分析解決方案與 SEM、TEM、S/TEM、DualBeam FIB/SEM 以及高級軟件套件結合起來, 以最高的成功率和生產(chǎn)率提供根本原因分析。其業(yè)界領先的工作流程可以為加速IC設計和生產(chǎn)決策提供快速、準確的解決方案。故障隔離和分析產(chǎn)品提供一流的圖像、豐富的功能集、橫斷面計量和自動化,以加快工藝缺陷識別、減少產(chǎn)量損失和縮短新產(chǎn)品上市時間。
 
  賽默飛世爾科技為電子顯微鏡和微觀分析提供創(chuàng)新的解決方案,通過將高分辨率成像與各種規(guī)模和模式的物理、元素、化學和電氣分析相結合,通過最廣泛的樣本類型,讓客戶完成從問題到獲得可用數(shù)據(jù)的過程。

 
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