來源：南大光電

 

2020年底，芯片大師曾報道突破！首款國產(chǎn)ArF光刻膠通過認(rèn)證，可用于45nm工藝，南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品成功通過某閃存客戶使用認(rèn)證，線制程工藝可以滿足45nm-90nm光刻需求。

 

5月11日，南大光電在業(yè)績說明會中回復(fù)投資者稱，公司的ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目目前已完成25噸光刻膠生產(chǎn)線建設(shè)，主要先進(jìn)光刻設(shè)備，如 ASML浸沒式光刻機(jī)等已經(jīng)完成安裝并投入使用。
 

圖：光刻膠是最重要的半導(dǎo)體材料之一

 

2020年底，公司自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品成功通過下游客戶的使用認(rèn)證，成為通過產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國產(chǎn)ArF光刻膠，各項(xiàng)光學(xué)性能均達(dá)到商用膠的水平，可實(shí)現(xiàn)先進(jìn)光刻膠的國產(chǎn)替代。

 

南大光電公告稱，從目前的測試結(jié)果看，旗下ArF光刻膠性能和日本產(chǎn)品達(dá)到同等水平，是目前國內(nèi)最先進(jìn)的光刻膠產(chǎn)品，并實(shí)現(xiàn)了ArF光刻膠的國產(chǎn)化和本土化，打破了被國外長期壟斷的被動局面。

 

此外，光刻膠的產(chǎn)業(yè)化已經(jīng)取得關(guān)鍵突破，南大光電透露已經(jīng)拿到國產(chǎn)光刻膠的首個訂單，實(shí)現(xiàn)小批量銷售。目前，光刻膠產(chǎn)品正在繼續(xù)發(fā)往多個下游客戶進(jìn)行驗(yàn)證工作，驗(yàn)證進(jìn)展順利。
 

圖：半導(dǎo)體光刻膠的分類

 

對于關(guān)鍵的原材料、設(shè)備“卡脖子”問題，南大光電表示，目前已經(jīng)除了配備用于質(zhì)量檢測的光刻機(jī)等量測設(shè)備是國外進(jìn)口的之外，光刻膠的主要原材料是自己開發(fā)和生產(chǎn)的，生產(chǎn)設(shè)備是聯(lián)合國內(nèi)企業(yè)研制的，均不存在被卡風(fēng)險。

 

產(chǎn)品規(guī)劃方面，南大光電稱，光刻膠項(xiàng)目2021年的主要任務(wù)是完成主要客戶認(rèn)證，2022年啟動量產(chǎn)并力爭盡早實(shí)現(xiàn)盈利。

 

自2019年日本對韓國進(jìn)行半導(dǎo)體材料出口管制以來，光刻膠已經(jīng)成為產(chǎn)業(yè)上游自主化的關(guān)鍵，2021年以來，國內(nèi)企業(yè)的光刻膠進(jìn)口供貨持續(xù)緊張，威脅封測產(chǎn)能，因此，i線以上包括KrF、ArF和EUV光刻膠在內(nèi)的產(chǎn)品自主化對我國半導(dǎo)體業(yè)有現(xiàn)實(shí)而長遠(yuǎn)的意義。