近日,由國(guó)家半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟(CSA)與第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟(CASA)主辦,南方科技大學(xué)微電子學(xué)院與北京麥肯橋新材料生產(chǎn)力促進(jìn)中心有限公司共同承辦的第十七屆中國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體照明論壇(SSLCHINA 2020)暨2020國(guó)際第三代半導(dǎo)體論壇(IFWS 2020)在深圳會(huì)展中心召開。

研究使用一種簡(jiǎn)單的變角度金屬沉積方法結(jié)合納米球模板技術(shù),制備了局域等離子激元共振易于調(diào)控的大面積周期性金屬納米二聚體陣列基板。與傳統(tǒng)的單金屬納米顆粒陣列不同,金屬納米二聚體結(jié)構(gòu)具有更高的消光強(qiáng)度和寬的等離激元共振譜,可滿足常規(guī)藍(lán)光激發(fā)波段和量子點(diǎn)發(fā)光綠光波段的雙模式共振。此外,通過在CsPbBr3量子點(diǎn)和Ag納米二聚體之間引入薄的共形涂覆PMMA隔離層,可以精確控制它們之間的耦合距離。以此為基礎(chǔ),實(shí)現(xiàn)了量子點(diǎn)藍(lán)光波段光吸收增強(qiáng)和激子輻射復(fù)合效率的顯著提升。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,通過優(yōu)化的等離激元結(jié)構(gòu)和PMMA間隔層,可以有效地實(shí)現(xiàn)SP激子耦合、并抑制表面復(fù)合,實(shí)現(xiàn)了量子點(diǎn)的光致發(fā)光(PL)約2倍的提升。

期間,由北京康美特科技股份有限公司,有研稀土新材料股份有限公司,寧波升譜光電股份有限公司,廣東晶科電子股份有限公司共同協(xié)辦的“半導(dǎo)體照明芯片、封裝及模組技術(shù)”分會(huì)上,廈門大學(xué)薩本棟微米納米科學(xué)技術(shù)研究院副教授尹君分享了基于金屬納米二聚體陣列的CsPbBr3鈣鈦礦量子點(diǎn)色轉(zhuǎn)換等離激元耦合增強(qiáng)。從鈍化策略、穩(wěn)定性評(píng)價(jià)等角度詳細(xì)介紹了關(guān)于穩(wěn)定鈣鈦礦量子點(diǎn)的合成與量子點(diǎn)的等離子體增強(qiáng)顏色轉(zhuǎn)換的研究成果。
近年來,金屬鹵化物鈣鈦礦因其出色的光電性能證明在光電器件領(lǐng)域具有巨大的應(yīng)用前景,特別是具有高量子產(chǎn)率的全無機(jī)CsPbX3(X = Cl,Br或I)量子點(diǎn)(QDs),其特有的窄帶發(fā)光峰、超短激子壽命,證明了在高性能顯示和照明領(lǐng)域的巨大潛力。報(bào)告主要針對(duì)當(dāng)前無機(jī)鈣鈦礦量子點(diǎn)在面向應(yīng)用方面兩個(gè)關(guān)鍵的穩(wěn)定性問題和光轉(zhuǎn)換性能調(diào)控兩個(gè)方面展開討論。


針對(duì)量子點(diǎn)的穩(wěn)定性提升問題,作者以相關(guān)研究為基礎(chǔ),在量子點(diǎn)合成過程中引入了特定的磺酸根配位分子修飾,通過表面缺陷位的有效鈍化,顯著提升了量子點(diǎn)的環(huán)境穩(wěn)定性及量子效率,展示了量子點(diǎn)表面工程對(duì)穩(wěn)定性提升的重要作用。而對(duì)于量子點(diǎn)在光譜增強(qiáng)及光物理動(dòng)力學(xué)操控方面的需求,表面等離激元與激子在量子結(jié)構(gòu)中的耦合效應(yīng)被認(rèn)為是提高發(fā)光效率的有效方法。傳統(tǒng)金屬納米粒子由于通常只有單模式等離激元共振,無法滿足量子點(diǎn)在光轉(zhuǎn)換應(yīng)用時(shí)所需要的光子吸收與激子輻射復(fù)合效率雙重提升的目標(biāo)。
研究使用一種簡(jiǎn)單的變角度金屬沉積方法結(jié)合納米球模板技術(shù),制備了局域等離子激元共振易于調(diào)控的大面積周期性金屬納米二聚體陣列基板。與傳統(tǒng)的單金屬納米顆粒陣列不同,金屬納米二聚體結(jié)構(gòu)具有更高的消光強(qiáng)度和寬的等離激元共振譜,可滿足常規(guī)藍(lán)光激發(fā)波段和量子點(diǎn)發(fā)光綠光波段的雙模式共振。此外,通過在CsPbBr3量子點(diǎn)和Ag納米二聚體之間引入薄的共形涂覆PMMA隔離層,可以精確控制它們之間的耦合距離。以此為基礎(chǔ),實(shí)現(xiàn)了量子點(diǎn)藍(lán)光波段光吸收增強(qiáng)和激子輻射復(fù)合效率的顯著提升。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,通過優(yōu)化的等離激元結(jié)構(gòu)和PMMA間隔層,可以有效地實(shí)現(xiàn)SP激子耦合、并抑制表面復(fù)合,實(shí)現(xiàn)了量子點(diǎn)的光致發(fā)光(PL)約2倍的提升。
(內(nèi)容根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)資料整理,如有出入敬請(qǐng)諒解)